מטרת סגסוגת הברזל-בורון (Fe-B) היא מטרה לקרטעת סגסוגת בינארית המורכבת בעיקר מברזל מתכתי (Fe) ובור לא-מתכתי (B). משמש כ"חומר מקור" לטכניקות של שקיעת סרט דק - כגון קיצוץ מגנטרון PVD ואידוי קרן -אלקטרונים, הוא משחרר אטומים או מולקולות משלו תחת הפצצת חלקיקי אנרגיה גבוהה-; אלה מופקדים לאחר מכן על משטח מצע ליצירת סרטים דקים על בסיס ברזל-בורון-. בהשוואה למטרות ברזל טהור או בורון, יעדי סגסוגת Fe-B משיגים-באמצעות השילוב ברמה האטומית-של תכונות סינרגיות של Fe ו-B-שאינן מושגות על ידי חומרים-יחידים. הם חומרים קריטיים לייצור סרטים דקים מגנטיים, ציפויים-עמידים בפני שחיקה, סרטים מוליכים-על ושכבות פונקציונליות של מוליכים למחצה. הם נמצאים בשימוש נרחב-במגזרי ייצור מתקדמים כגון אלקטרוניקה, אנרגיה חדשה ותעופה וחלל.
שיטת הכנה למטרות סגסוגת בור-
חומרי גלם ופרופורציות: נבחרים ברזל, בורון ואלמנטים מתגזרים בטוהר גבוה-; הפרופורציות האופטימליות נקבעות באמצעות חישובים תיאורטיים ואימות ניסיוני כדי להבטיח שביצועי היעד עומדים בדרישות ספציפיות.
התכה ויציקה בוואקום: טכניקות התכת אינדוקציה בוואקום או התכת קשת משמשות כדי לחמם את חומרי הגלם למצב מותך מלא תחת ואקום או אווירה מגנה, מה שמבטיח הומוגניות של סגסוגת. הסגסוגת המותכת יצוקה לתבניות (כגון תבניות נחושת מקוררות במים), וקצב הקירור נשלט כדי לעדן את מבנה הגרגירים, ובכך לשפר את התכונות המכניות והמגנטיות.
טיפול ועיבוד בחום: המטיל היצוק עובר חישול כדי לייעל את המיקרו-מבנה שלו; טיפול בתמיסה מתבצע במידת הצורך כדי לשפר עוד יותר את ההומוגניות. לבסוף, מתבצע עיבוד מכני-כגון חיתוך וטחינה-כדי להשיג את המטרה במידות ובצורה הנדרשים.
יישומים של מטרות סגסוגת בור-
אחסון מגנטי בצפיפות גבוהה במיוחד: משמש כחומר ליבה לשכבות מדיה הקלטה מגנטיות וראשי קריאה/כתיבה בכונני דיסק קשיח (HDD), וממלא תפקיד מפתח בהשגת פריצות דרך בצפיפות האחסון.
התקני ספינטרוניק: חומר הכרחי לייצור צומת מנהרות מגנטיות (MTJs) בזיכרון גישה אקראי-מגנטוריסטיסטי (MRAM), המשמש הן בשכבות הקבועות והן בשכבות החופשיות.
חיישנים ביו-רפואיים: משמשים לייצור סרטים דקים לתיוג מגנטי, הממלאים תפקיד בזיהוי ביולוגי ובטיפולים ממוקדים.
מיקרו-מערכות אלקטרו-מכאניות (MEMS): משמשות לייצור סרטים דקים של רוטור מגנט קבוע עבור מיקרו-מנועים ושכבות הפעלה עבור מתגים מגנטיים.
