מגנזיום אוקסיד (MgO) מטרה לקריזה

תחמוצת מגנזיום במטרות מקרטעת באה לידי ביטוי בעיקר ביצירת סרט במהירות גבוהה, יישום בתעשיות מיקרו-אלקטרוניקה ופוטו-וולטאיות, תהליכי הכנה ספציפיים ויישומי ציפוי נרחבים. יישומים אלה נהנים מהתכונות הפיזיקליות והכימיות של תחמוצת המגנזיום עצמה.

היישום של תחמוצת מגנזיום (MgO) במטרות מקרטעת בא לידי ביטוי בעיקר בהיבטים הבאים:

יצירת סרט במהירות גבוהה: מטרות לקרטעת מגנזיום תחמוצת משתמשות ב-MgO ובחומרים מוליכים כמרכיבים העיקריים. הרכב מיוחד זה מאפשר לסרט ה-MgO להיות מכוון כאשר הוא נוצר עם MgO על-ידי קיצוץ DC, ובכך להשיג יצירת סרט במהירות גבוהה בעת יצירת סרט ה-MgO.

יישום בתעשיות מיקרו-אלקטרוניקה ופוטו-וולטאיות: עם התפתחות המיקרו-אלקטרוניקה והתעשיות הפוטו-וולטאיות, נעשה שימוש נרחב ביעדי תחמוצת מגנזיום בטוהר גבוה במוצרים אלקטרוניים ובציפויים פוטו-וולטאיים. הטוהר הגבוה שלו מפחית את ההפרעות הנגרמות על ידי זיהומים ומשפר את יציבות המוצר ואת חיי השירות.

תהליך הכנה: בתהליך ההכנה של מטרות קרמיות תחמוצת בעלות ביצועים גבוהים, תחמוצת מגנזיום היא אחת ממטרות הקפיצה הנפוצות. תמיסת התחמוצת מתקבלת באמצעות כרסום כדורי ואקום, לאחר מכן יציקת תמצית, ותהליך סינטר, ניתן להשיג מטרה לקפיצת תחמוצת מגנזיום בגודל גבוה בצפיפות גבוהה.

יישום ציפוי: ציפוי הסרט הדק המקרטע של מטרת הקזת מגנזיום אוקסיד נעשה שימוש נרחב בתעשיות כגון לוחות גביש נוזלי, מסכי מגע, תאים סולאריים בסרט דק ודיודות פולטות אור. היישום של ציפויים אלה נהנה מנקודת התכה גבוהה, בידוד מעולה, עמידות בחום, תכונות נוגדות חמצון וקורוזיה של תחמוצת מגנזיום.

תגיות פופולריות: מטרת מקרטעת מגנזיום אוקסיד (mgo), ספקי מטרת מקרטעת מגנזיום אוקסיד (mgo), מפעל