תיאור מוצרים
ניתן להשתמש ב-Tantalum Oxide Putting Target בתצוגה של מוליכים למחצה, בתצהיר כימי (CVD), בתצוגת אדי פיזיקלית (PVD) וביישומים אופטיים. אנחנו ספקים של מטרת ריזור תחמוצת טנטלום באיכות גבוהה במחירים תחרותיים.
בייצור מעגלים משולבים, מטרות טנטלום פנטאוקסיד משמשות לעתים קרובות להכנת השכבה הדיאלקטרית של הקבלים. מכיוון שלטנטלום פנטאוקסיד יש תכונות דיאלקטריות טובות ואינדקס שבירה גבוה, הוא יכול לספק קיבול יציב ומהירות העברת אותות גבוהה בקבלים. בנוסף, ניתן להשתמש בטנטלום פנטאוקסיד גם להכנת סרטים אופטיים, כגון עדשות אופטיות ומסננים. מקדם השבירה הגבוה והשקיפות שלו מעניקים לו יתרונות ייחודיים במכשירים אופטיים.
מטרות טנטלום פנטאוקסיד משמשות גם בתחום האנרגיה. בשל היציבות הכימית הטובה ונקודת ההיתוך הגבוהה שלו, טנטלום פנטאוקסיד יכול לשמש כמרכיב מפתח של סוללות בטמפרטורה גבוהה והתקני אחסון אנרגיה. יש לו מוליכות חשמלית מעולה וניידות אלקטרונים נמוכה בסביבות טמפרטורה גבוהה, כך שהוא יכול לספק ביצועי המרת אנרגיה ואחסון יעילים. סינטרה של מטרות טנטלום פנטאוקסיד היא שלב חשוב בהכנת חומרים קרמיים פונקציונליים בעלי ביצועים גבוהים.
על ידי שליטה בטמפרטורת הסינטרה ובזמן, ניתן להשיג מטרה בעלת מבנה מיקרו אחיד ומבנה גבישי צפוף. יעדי טנטלום פנטאוקסיד הם בעלי סיכויי יישום רחבים בתחומי האלקטרוניקה, האופטיקה והאנרגיה, והם יספקו תמיכה וקידום חשובים לפיתוח תחומים קשורים.
יישומים
Target Sputtering Tantalum Ooxide משמש בעיקר בתעשיית האלקטרוניקה והמידע, בתחום ציפוי זכוכית, חומרים עמידים בפני שחיקה, עמידות בפני קורוזיה בטמפרטורה גבוהה, מוצרים דקורטיביים בדרגה גבוהה ותעשיות אחרות.
|
חוֹמֶר |
יעד Ta2O5 |
|
טוֹהַר |
99.99% |
|
גודל |
קוטר 1","2", 3", 4" או מותאם אישית |
|
צפיפות יחסית |
מעל 80% |
|
צוּרָה |
עגול, מלבני, גרגירים או מותאם אישית |
|
טֶכנוֹלוֹגִיָה |
מחפיר |
|
קשר |
אינדיום, אלסטומר |
|
משטח |
קרקע, אדמה |
תגיות פופולריות: מטרת קפיצה של תחמוצת טנטלום (ta2o5), ספקי יעדי קיצוץ של תחמוצת טנטלום (ta2o5), מפעל
