מטרת קפיצת אלומיניום (אל).

שלח החקירה

תיאור מוצרים

מטרת קפיצת אלומיניום היא בעלת תפקיד זהה לאלומיניום מתכת. אלומיניום הוא יסוד כימי עם הסמל Al ומספר אטומי 13. זוהי מתכת כסופה-לבנה, רכה, לא מגנטית וגמישה בקבוצת הבורון. האלומיניום יוצא דופן בזכות הצפיפות הנמוכה שלו וביכולתו לעמוד בפני קורוזיה באמצעות תופעת הפסיבציה. האלומיניום וסגסוגותיו חיוניים לתעשייה האווירית וחשובים בתעשיות תחבורה ובניין, כגון חזיתות מבנים ומסגרות חלונות.3N8-4אלומיניום טהור N8 משמש לגלגול רדיד אלומיניום קבלים אלקטרוליטיים, גופי תאורה ואחסון נתונים. אלומיניום 5N-6N טהור במיוחד משמש בייצור התקני מוליכים למחצה, ייצור של אמצעי אחסון אופטו-אלקטרוניים, חומרים לייצוב כבלים מוליכים ומחקר מדעי של מעבורות חלל.

מטרות הקפיצה שיצרנו הינן בטוהר גבוה, היתרונות החשובים ביותר הם שהסרטים שלך בעלי רמה יוצאת דופן של מוליכות חשמלית והיווצרות חלקיקים ממוזערת במהלך תהליך PVD. הטופס שלהלן הוא תעודת ניתוח טיפוסית עבור מטרת הקזת האלומיניום שלנו היא טוהר גבוה, היתרון החשוב ביותר הוא שהסרטים יהיו בעלי רמה יוצאת דופן של מוליכות חשמלית והיווצרות חלקיקים ממוזערת במהלך תהליך PVD.

זרימת תהליך להכנת מטרת קפיצת אלומיניום

חומר-הכנת-אזור-היתוך-כימי-ניתוח-פרזול-גלגול-חישול-בדיקה מטאלוגרפית-עיבוד עיבוד-בדיקת גודל-ניקוי-בדיקה סופית-אריזה

מטרת קפיצת אלומיניום ושיטת ההכנה שלו

אלומיניום מתקבל על ידי מיצוי Al2O3 מבוקסיט ואלקטרוליזה בקריוליט מותך. הטוהר הוא בדרך כלל מעל 99%. עם זאת, אלומיניום בטוהר כזה אינו יכול לשמש כחומר גלם לייצור מטרות אלומיניום. הדרישה הראשונה והחשובה ביותר היא טוהר גבוה. האלומיניום הטוהר הגבוה המשמש ביעד האלומיניום מיוצר באמצעות הפרדה, אלקטרוליזה תלת-שכבתית או התכה אזורית משולבת. המחיר יקר יותר מאלומיניום טהור תעשייתי 99.7 רבים, הטוהר הגבוה ביותר בסין הוא כ-99.9999% (6N). עם מטילי אלומיניום בטוהר גבוה כחומרי גלם, פרזול, גלגול וטיפול בחום של חומרי הגלם יכולים להפוך את הגרגירים במטילי האלומיניום לקטנים יותר ולהגדיל את הצפיפות כדי לעמוד בדרישות של יעדי אלומיניום לקפיצה. חומר האלומיניום הטוהר הגבוה לאחר דפורמציה מעובד על ידי עיבוד מכני. עיבוד מטרת האלומיניום דורש דיוק גבוה ואיכות פני שטח גבוהה, וניתן לעבד אותו לגודל היעד הנדרש על ידי מכונת ציפוי הוואקום.