Hafnium（Hf）מטרת קיצוץ

למטרת הקזת הפניום יש ביצועים זהים לאלה של חפניום מתכת (Hf). הפניום עם נקודת התכה של 2233 מעלות, נקודת רתיחה של 4603 מעלות וצפיפות של 13.31g/cm3. זוהי מתכת מעבר אפור-כסף מבריק. להפניום מתכת יש חוזק בינוני, עמידות בפני קורוזיה טובה ויכולת ספיגת נויטרונים גבוהה. הוא נמצא בשימוש נרחב בתעשיית האנרגיה האטומית; הפניום יכול ליצור מגוון סגסוגות ויכול לשמש גם כציפוי משטח למתכות בסיס. אנו יכולים לספק חפניום מיובא בטוהר גבוה עם זירקוניום נמוך, שניתן לעבד אותו למטרות וחלקיקים.

על ידי החדרת הלחץ החלקי של החמצן, ניתן להכין את סרט תחמוצת ההפניום על ידי קימוץ חשמלי או קפיצה תגובתית עם מטרת קיזור הפניום. הסרט הדק המתקבל יכול לשמש במגוון יישומים, כולל ציפויים אופטיים לפוטוניקה, עמידות לסרט דק, עמידות בפני קורוזיה, מוצרים גרעיניים, מבודדי שערים במעגלים משולבים וחיישנים.

מטרת מקרטעת NiHf

מטרת מקרטעת NbHfTi

מטרת מקרטעת HfO2

מטרת מקרטעת HfC

מטרת מקרטעת HfB2

תגיות פופולריות: hafnium（hf）מטרת מקרטעת, סין hafnium（hf）ספקי מטרה מקרטעת, מפעל